Оценить:
 Рейтинг: 0

Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра

Год написания книги
2006
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
На сайте электронной библиотеки Litportal вы можете скачать книгу Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра в формате fb2, rtf, pdf, txt, epub. У нас можно прочитать отзывы и рецензии о этом произведении.

Читать онлайн

Помогите, пожалуйста, другим читателям нашего сайта, оставьте отзыв или рецензию о прочитанной книге.


Спасибо! Ваш отзыв был отправлен на модерацию.

Отзывы о книге Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра

список сообщений пуст